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光催化廢氣處理設備的處理過程

2021年08月26日 10:50:10人氣:359來源:諸城市吉豐機械科技有限公司

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關 鍵 詞光氧催化設備,廢氣凈化設備,除臭除味設備,活性炭吸附塔,廢氣吸附設備
【資料簡介】

光催化法的主要原理是:污染物被高能光波照射,直接參與光解反應;或利用光波激發(fā)半導體催化劑,使其具有氧化還原反應能力,達到氧化降解污染物的目的;或通過植物吸收高能光子,產生生物和化學效應,并進行有機降解。


光催化廢氣處理優(yōu)點如下


光催化法的特點是設備簡單,可在常溫常壓下運行,有機降解快,*,無二次污染。以低壓汞燈為光源,常溫常壓運行20分鐘,對100mg/ L以下幾種染料廢水的降解率為95-100%。對人參中含有0.817mg/kg六氯苯和0.911mg/kg五氯硝基苯的農藥殘留進行4h降解,降解率分別為93%和97%。

該光催化方法可以利用太陽光作為能量激活光催化劑,驅動氧化-還原反應,并且在反應過程中不消耗光催化劑。


光催化的應用包括工業(yè)有毒溶劑、化學殺蟲劑、木材防腐劑、染料和燃料油,也用于處理無機污染物。


光催化廢氣處理過程如下


光催化氧化利用光化學反應來降解污染物,包括無催化劑或有催化劑的光化學氧化過程。前者以氧和過氧化氫為氧化劑,在紫外光下氧化分解污染物。后者又稱光催化氧化,一般可分為均相催化和多相催化。均勻的光催化降解是一個比較常見的是鐵或鐵和過氧化氫作為媒介,通過照片-芬頓反應,對污染物降解HO,多相光催化降解是一種更常見的在系統(tǒng)中添加一定量的光敏半導體材料的污染,加上一定量的輻射的同時,的照射下使光敏半導體光激發(fā)產生的電子-空穴對,溶解氧,水分子吸附在半導體和電子,如空化,產生強氧化性自由基,如HO,污染物可以*或幾乎*礦化羥基,替換和電子轉移。

光氧催化設備2.jpg


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