產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

異味臭氣廢氣光氧處理設(shè)備利用特制的高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體，裂解惡臭如：氨，硫化氫，甲硫氰，甲硫醇，甲硫醚，二甲二硫，二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S，VOC類(lèi)，苯，甲苯，二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線(xiàn)光束照耀下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2，H2O等。

利用高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜帶正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。*臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及氣體刺激性異味有*的清除效果。

惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線(xiàn)光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物，水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。

利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

工藝原理

異味臭氣廢氣光氧處理設(shè)備光催化通常是指有機(jī)物再光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物終生成如CO2，H2O及其他的離子如：NO3-，PO43-，C1-等。有機(jī)物的光降解可分為直接光降解，間接光降解。前者是指有機(jī)物分子吸收光能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。后者是周?chē)h(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導(dǎo)一系列有機(jī)污染的反應(yīng)。間接光降解對(duì)環(huán)境中難生物降解的有機(jī)污染更為重要。

利用光化學(xué)反應(yīng)降解污染物的途徑，包括無(wú)催化劑參與的光化學(xué)氧化過(guò)程。前者多采用氧和過(guò)氧化氫作為氧化劑，再紫外光的照射下使污染物氧化分解；后者又稱(chēng)光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類(lèi)型。均相光催化降解中較常見(jiàn)的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過(guò)photo-Fenton反應(yīng)產(chǎn)生HO等氧化性*的自由基，再通過(guò)與污染物之間的羥基加和，取代，電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化。