ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計,是大 多數(shù)半導體開發(fā)和支持實驗室的常用工具。通過優(yōu)化的二次離子收集光學系統(tǒng) 和超高真空設計,提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質(zhì)所需的靈敏度。
特點:
1)大束流低能量離子設備設計,極大的提高了深度分辨率
2)高性能離子光學系統(tǒng),改善了二次離子傳輸效率,在提高分析效率的同時又提高了檢測靈敏度
3)高精度全自動5軸樣品操控臺
4)不同方向進入檢測器的二次離子,均可被高靈敏地收集檢測
應用實例分析
采用一次離子源Cs在加速5kV束流為100nA的條件下,分析GaAs中注入的H,C,O元素??梢钥吹紿檢測限值7.1X1016 atm/cm3,O檢測限值4.4X1015 atm/cm3,C檢測限值2.0X1015 atm/cm3。