螣芯HS系列國產(chǎn)半自動紫外光刻機
半自動光刻機-對準(zhǔn)模式 自動
本設(shè)備是我公司專門要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、MEMS、化合物半導(dǎo)體、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)，該機器是高校、研究所、企業(yè)用戶優(yōu)選的高性價比機型。
主要技術(shù)參數(shù)：
1．曝光類型：單面曝光；雙面曝光；雙面對準(zhǔn)單面曝光 可選
2．曝光面積：160×160mm；210×2100mm；310×310mm；可選
3．曝光照度不均勻性：≤2.5%（(Φ150mm 范圍）；
4．曝光強度：≥40mw/cm2可調(diào)；
5．紫外光束角：≤2?；
6．紫外光中心波長：365nm；405nm可選
7．紫外光源壽命：≥2萬小時；
8．曝光分辨率：0.8μm；
9．曝光模式：可選擇一次曝光或套刻曝光；
10．顯微鏡掃描范圍： Y：±30mm；
11．對準(zhǔn)范圍：X、Y±5mm（移動精度0.5um），Q±6°（移動精度0.001°）
12．對準(zhǔn)精度：±0.5um；
13．分離量；0～1000μm可調(diào)；
14．接觸－分離漂移：≤1μm；
15．曝光方式：真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式；
16.掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″9″×9″13″×13″各一件；
17.標(biāo)配承片臺： 2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸、8 、12、英寸各一件；
18.標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度：0.1-6 mm；
19.可設(shè)計工作厚度：50 mm；
20.對準(zhǔn)系統(tǒng)：CCD
螣芯HS系列國產(chǎn)半自動紫外光刻機
