型號：OTF-1200X-50-DSL
產(chǎn)品概述：OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐，其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動速度可以根據(jù)實驗需要而設(shè)置（1mm/sec-100mm/s),并可以設(shè)置左右反復滑動，同時還可以設(shè)置爐體的滑動距離。此款管式爐專門設(shè)計用CVD方法定向生長單壁碳納米管（SWCNTs）。通時此款滑軌爐也可用來在硅片上生長熔點較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設(shè)30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭
| 爐體結(jié)構(gòu) | · 采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng) · 一個滑軌安裝在爐體下端，可通過一6“的觸摸屏來控制爐體移動方向、滑動速度和往返次數(shù) · 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料，并且表面涂有美國進口高溫氧化鋁涂層，可提高加熱效率和延長使用壽命。 |
| 功率 | 1.5KW |
| 電壓 | AC220V，單相 |
| 共工作溫度 | 1200℃（≤1小時） |
| 連續(xù)工作溫度 | 1100℃ |
| 加熱區(qū)域 |
· 加熱區(qū)：200mm(單溫區(qū)） · 通過管堵位置和爐體移動可形成想得到的溫度梯度
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| 加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁（表面涂有高溫氧化鋯涂層，可延長其使用壽命） |
| 爐管 | · 高純石英管 · 尺寸：50 mm OD x 46mm ID x 1000 mm L · 儀器加熱前，必須放入管堵，以防止熱量輻射影響法蘭的密封性 |
| 溫控系統(tǒng) | · 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度，可設(shè)置30段升溫、降溫和保溫程序 · 設(shè)置有溫度過高和斷偶保護系統(tǒng) · 控溫精度：±1℃ · 可選測PC控制軟件，將升溫程序和溫度曲線導入到電腦中 · 控溫儀表操作視頻 |
| 爐體滑動控制系統(tǒng) | · 觸摸屏控制 · 爐體移動有手動和自動控制兩種控制狀態(tài)，在手動狀態(tài)和自動狀態(tài)下均可設(shè)定左右移動的速度，但只有在自動狀態(tài)下才能設(shè)定左右移動的次數(shù)。 · 含蜂鳴報警器，當爐體觸碰到限位開關(guān)就會產(chǎn)生報警，并切斷控制電路，使爐體停止移動。 · 可顯示高溫爐內(nèi)的爐溫，與之通訊 |
| 密封法蘭 | · 儀器中配有一套不銹鋼密封法蘭（上面已安裝不銹鋼針閥和機械壓力表） · 法蘭上有一Φ6.35的鎧裝孔，可將熱電偶插入到爐管中，更準確地測量樣品的實際溫度 |
| 石英氣體噴嘴 | 可選配石英氣體噴嘴，將反應氣體與緩沖清洗氣體分開通入，可有效減少副反應發(fā)生，實現(xiàn)CVD工藝，如局部控制前體濃度化學氣相沉積工藝（ALC CVD）或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。 |
| 真空度 | · 10E-5 torr （用分子泵） · 10E-2?torr?（用直聯(lián)式機械泵） |
| 滑軌長度 | 1200mm |
| 操作視頻 | 操作視頻 |
| 產(chǎn)品尺寸 | · 315 x 300 x 380 mm (爐體) · 1200 x 400 x 530 mm ( 整個外形) · 360 x 180 x 300 mm（電器控制柜） |
| 重量 | 100KG |
| 質(zhì)保期 | 一年質(zhì)保期，終生維護（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件損耗件） |
| 質(zhì)量認證 | |
