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廣電計(jì)量檢測集團(tuán)股份有限公司

高分辨電子掃描顯微鏡

參考價(jià) 110
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)ZEISS
  • 所  在  地廣州市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間2022/8/22 15:43:36
  • 訪問次數(shù)1187
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司-專注歐美日多家高科技儀器設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供*的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用范圍: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和應(yīng)用, 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。


半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano 針尖/電子束光刻機(jī)(Nano analytik), 紫外光刻機(jī),激光直寫光刻機(jī),雙光子微納3D打印機(jī)(飛秒激光直寫儀),英國Durham 無掩膜激光光刻機(jī),瑞士NanoFrazor 3D 微納直寫機(jī),德國Sentech 刻蝕機(jī), 鍍膜機(jī)及ALD,英國HHV真空鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),日本及德國電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克光譜儀, 美國Thermo  Fisher賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品.

清洗機(jī),分析儀,測量儀
高分辨電子掃描顯微鏡必須是全新設(shè)備且整體進(jìn)口(包括所有零部件,元器件和附件等),滿足各自的技術(shù)指標(biāo)和性能,其性能應(yīng)達(dá)到*水平,可靠性好,性能穩(wěn)定,控制精度高,使用、操作和維修方便,售后服務(wù)優(yōu)良,必須在河南地區(qū)常駐有售后工程師以方便后期維護(hù)。
高分辨電子掃描顯微鏡 產(chǎn)品信息

ZEISS 高分辨電子掃描顯微鏡-EVO 10,具備自動(dòng)化工作流程的高清晰掃描電鏡
 

提高樣品的成像分辨率,提供更多表面細(xì)節(jié)信息

EVO 電鏡廣泛應(yīng)用于材料和生命科學(xué)領(lǐng)域。

在低電壓下,借助電子束減速和高分辨背散射電子成像技術(shù)獲取出色的樣品形貌細(xì)節(jié)。您還可以在可變環(huán)境條件下實(shí)時(shí)觀察材料的相互作用,控制樣品
室環(huán)境并實(shí)現(xiàn)含水生物樣品的詳細(xì)分析。

借助自動(dòng)化工作流程實(shí)現(xiàn)高效應(yīng)用。EVO 的 X 射線幾何學(xué)設(shè)計(jì)能確保在分析工作條件下達(dá)到分辨率。 

 

高分辨電子掃描顯微鏡技術(shù)規(guī)格

 

設(shè)備主要部件及技術(shù)要求:

 

該項(xiàng)目的設(shè)備必須是全新設(shè)備且整體進(jìn)口(包括所有零部件,元器件和附件等),滿足各自的技術(shù)指標(biāo)和性能,其性能應(yīng)達(dá)到*水平,可靠性好,性能穩(wěn)定,控制精度高,使用、操作和維修方便,售后服務(wù)優(yōu)良,必須在河南地區(qū)常駐有售后工程師以方便后期維護(hù)。

 

1、基本要求

 

1.1 電子光學(xué)系統(tǒng)

 

1.1.1 發(fā)射源:鎢燈絲;

1.1.2 分辨率:高真空二次電子像 ≤3.0nm @30kV≤8.0nm @3kV低真空背散射電子像 ≤4.0nm(30kV);

1.1.3 加速電壓范圍:200V-30kV,10V 步進(jìn)連續(xù)可調(diào);

1.1.4 放大倍數(shù)范圍不小于:7X-1,000,000X,連續(xù)可調(diào);

*1.1.5 探針電流范圍:0.5 pA~5μA,連續(xù)可調(diào);

*1.1.6 電子束控制模式不少于以下幾種控制模式:分辨率模式、分析模式、大視野模式、大景深模式和魚眼模式;

*1.1.7 分析工作距離不大于 8.5mm 且分析工作距離下的大視野范圍不小于 6mm,普通模式下視野范圍不小于 20mm;

 

1.2 真空系統(tǒng)

 

1.2.1 抽真空系統(tǒng):渦輪分子泵 + 機(jī)械泵,不需要冷卻水

1.2.2 樣品室真空度:優(yōu)于優(yōu)于 3 x 10-4 Pa

1.2.3 抽真空時(shí)間:≤3 分鐘

 

1.3 樣品室及樣品臺(tái)

1.3.1  樣品室內(nèi)部尺寸不小于 310mm(直徑)×220mm(高);3

*1.3.2 可放置的樣品尺寸和承重:樣品直徑不小于 230mm,高度不小于 100mm,臺(tái)承重不小于5kg;

1.3.3   配備探測器:高真空二次電子探測器,背散射電子探測器,樣品室紅外 CCD 攝像裝置

*1.3.4  配置五軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái):樣品臺(tái)馬達(dá)移動(dòng)范圍:不小于 80mm(X 方向),100mm(Y 方向),35mm(Z 方向),-10°~ 90°(傾斜),360°(旋轉(zhuǎn))

1.3.5  樣品臺(tái)類型:全電動(dòng) 5 軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái),雙軸搖桿操作系統(tǒng);

1.3.6  樣品臺(tái)具有接觸報(bào)警與自停功能;

*1.3.7  馬達(dá)臺(tái)重復(fù)精度不低于 2um;

15168338725
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