CIF等離子清洗機(jī)(plasma cleaner）不僅外觀設(shè)計(jì)美觀、而且內(nèi)在質(zhì)量過硬，產(chǎn)品性能穩(wěn)定可靠。主要核心部件全部采用*。

清洗原理：

    等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

    等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

應(yīng)用領(lǐng)域：

 等離子清洗機(jī)在科學(xué)研究各方面已經(jīng)取得了廣泛的運(yùn)用，涉及材料學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)  生物學(xué)等不同領(lǐng)域，主要用于以下實(shí)驗(yàn)：

• 表面清潔  
• 表面活化
• 鍵合
• 去膠
• 金屬還原
• 簡(jiǎn)單刻蝕
• 器械的消毒
• 去除表面有機(jī)物
• 疏水實(shí)驗(yàn)
• 鍍膜前處理等

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 采用美國(guó)霍尼韋爾（Honeywell）真空壓力傳感器，性能穩(wěn)定可靠；
• 采用美國(guó)德威爾（Dwyer）氣體浮子流量計(jì)，流量控制準(zhǔn)確；
• *雙路氣體控制方式，氣體控制更加穩(wěn)定；
• 弧形電極板設(shè)計(jì)，清洗更*；
• 艙體、管路、閥體全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，防腐不生銹；
• 手動(dòng)、自動(dòng)兩種工作模式，可根據(jù)客戶需求任意切換；
• 觸摸按鍵+4.3寸大屏幕彩色液晶顯示屏設(shè)計(jì)，顯示清晰，操作簡(jiǎn)單；
• 智能程序化控制，可編程自動(dòng)完成整個(gè)實(shí)驗(yàn)過程；
• 無(wú)需任何耗材，使用成本低；
• 無(wú)需特殊進(jìn)行維護(hù)，在日常使用過程中保持儀器清潔即可；

• 整機(jī)保修一年。

技術(shù)參數(shù)：